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Dokument Type: Doctoral Thesis
Title: X-ray diffraction analysis of InAs nanowires
Röntgenbeugungsanalyse von InAs Nanodrähten
Authors: Davydok, Anton 
Institute: Fakultät IV Naturwissenschaftlich-Technische Fakultät 
Free keywords: III-V semiconductor, X-ray diffraction, scanning electron microscopy, nanowire
Dewey Decimal Classification: 530 Physik
GHBS-Clases: UIQN
UIUD
Issue Date: 2013
Publish Date: 2013
Abstract: 
Semiconductor nanowires have attracted great interest as building blocks for future electronic and optoelectronic devices. The variability of the growth process opens the opportunity to control and combine the various properties tailoring for specific application. It was shown that the electrical and optical characteristics of the nanowires are strongly connected with their structure. Despite intensive research in this field, the growth process is still not fully understood. In particular, extensive real structure investigations are required. Most of the reports dedicated on the structural researches are based on the results of scanning electron microscopy (SEM) or transmission electron microscopy (TEM). SEM provides an image of the surface with nanostructures and is mainly used to describe the morphology of the sample, but it does not bring information about the internal structure, phase composition and defect structure. At the same time, the internal structure can be examined by TEM down to atomic scale. TEM image of good quality are very expensive due to the efforts in sample preparation and in localisation of a single object. All these aspects make the statistical structural analysis difficult.
In the present work, X-ray diffraction analysis has been applied for structural investigation of InAs nanowires grown by different techniques. Using various X-ray diffraction geometries, the nanowire systems were investigated in terms of the lattice parameters, phase composition, strains and displacement fields and stacking defects.
In particular, realizing grazing incidence diffraction and controlling the penetration depth of X-ray beam, we characterized sample series grown by Au-assisted metal organic phase epitaxy on GaAs [111]B substrate with different growth time. According to the results of SEM and X-ray investigations, a model of the growth process has been proposed.
A more detailed analysis was performed on InAs nanowires grown by molecular beam epitaxy (MBE) on Si substrate. MBE provides the opportunity to combine a group III-V material with nearly any semiconductor substrate independent from lattice mismatch. Vertically aligned nanowire ensembles were studied performing X-ray diffraction experiments in different scattering geometries. Considering the nanowires are composed by structural units of zinc-blende and wurtzite the latter one was found to be affected by a high density of stacking faults already at nanowires with short growth time. The stacking faults density was estimated by Monte-Carlo simulations based on model of ensemble average. A strong signal of unique zinc-blende reflection was observed as well. Coherent X-ray diffraction experiments with the use of a nano-focus setup have shown ‘bar-code’ patterning due to stacking fault arrangement within the nanowire. The found highly defective structure cannot be attributed to wurtzite or zinc-blende phases alone. Also parasitic islands were found on the samples surfaces and characterized as pure zinc-blende objects.

Halbleiter-Nanodrähte sind von großem Interesse als Bausteine für zukünftige elektronische und optoelektronische Bauelemente. Die Variabilität des Wachstumsprozesses eröffnet die Möglichkeit, spezifische Eigenschaften unterschiedlicher Materialien für spezifische Anwendungen zu spezifizieren. Es wurde gezeigt, dass die elektrischen und optischen Eigenschaften der Nanodrähte stark mit ihrer Struktur verbunden sind. Ungeachtet unfangreicher Untersuchungen in diesem Feld, ist der Wachstumsprozess noch nicht vollständig verstanden. Insbesondere sind umfangreiche Realstrukturuntersuchungen erforderlich. Viele Untersuchungen zur Realstruktur basieren auf Ergebnissen der Rasterelektronenmikroskopie (SEM) oder Transmissionselektronenmikroskopie (TEM). SEM bietet ein Bild der Oberfläche der Nanostrukturen, aber es liefert keine Informationen über die innere Struktur. Andererseits kann man mit TEM die interne Struktur auf atomarer Längenskala untersuchen. Aber eine TEM-Aufnahme von guter Qualität ist wegen des großen Aufwandes bei der Probenpräparation und insbesondere bei Lokalisierung einzelner Objekte sehr teuer. Alle diese Aspekte machen die statistische Strukturanalyse schwierig.
In dieser Arbeit werden verschiedene Verfahren der Röntgenbeugung für strukturelle Untersuchungen an InAs-Nanodrähte verwendet, die durch verschiedene Techniken gewachsen wurden. Bei Verwendung verschiedener Streugeometrien werden die Nanodrähte in Bezug auf ihren Gitterparameter, Phasenzusammensetzung und Stapelfehler untersucht.
Bei Verwendung der Geometrie, wurde eine Probenserie,die mittels von Au-assistierter MOVPE auf GaAs [111] B Substrat mit unterschiedlichen Wachstumszeit gewachsen wurden, charakterisiert. Unter Verwendung von Ergebnissen von SEM- und Röntgen-Untersuchungen wurde ein Modell des Wachstumsprozesses vorgeschlagen worden.
Eine genauere Analyse wurde an InAs-Nanodrähten vorgenommen, die mittels MBE auf Si Substrat aufgewachsen wurden. MBE bietet dabei die Möglichkeit, AIIIBV Halbleiter mit nahezu jedem anderen Halbleitersubstrat zu kombinieren, ungeachtet der Gitterfehlanpassung. Vertikal ausgerichtete Nanodraht-Ensembles wurden mittels Röntgenbeugung in verschiedenen Streugeometrien untersucht. Die Nanodrähte enthielten sowohl Zinkblende als auch Wurzit Struktureinheiten erwiesen und wiesen bereits nach kurzer Wachstumzeit eine hohe Dichte von Stapelfehlern auf. Die Stapelfehlerdichte des Ensemble Mittelwertes wurde mittels Monte-Carlo-Simulationen aus der Kurvenform spezifischen Beugungsreflexen abgeschätzt. Ein starkes Signal der einzigartigen Zinkblende-Reflexion wurde ebenfalls beobachtet. Kohärente Röntgenbeugungsexperimente mit kohärenter Röntgenstrahlung wurden unter Verwendung eines Nano-Fokus Setups durchgeführt und lieferten ein "Bar-Code" Strukturierung der Beugungsreflexe, die aus der konkreten Anordnung von Stapelfehlern innerhalb des Nanodrahtes resultieren. Die gefundene Struktur des Braggreflexes kann nicht mehr mit reinen Wurtzit und Zinkblende Phasen beschrieben werden. Auch parasitäre Inseln wurden auf der Substratoberfläche gefunden, die als reine Zinkblende-Objekte charakterisiert wurden.
URN: urn:nbn:de:hbz:467-7593
urn:nbn:de:hbz:467-7593
URI: https://dspace.ub.uni-siegen.de/handle/ubsi/759
License: https://dspace.ub.uni-siegen.de/static/license.txt
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